HiPIMS Technology Txheej txheem cej luam

Magnetron tshuab luam yeeb tshuab dav dav siv rau hauv thaj teb ntawm nyias zaj duab xis npaj. Cov ntawv thov ntawm cov hniav coating thiab cov txheej txheem txheej kuj sib txawv.

Txawm li cas los xij, magnetron sputtering processing technology muaj ntau cov kev txwv. Piv txwv li, thaum lub caij nyoog loj yog lub loj loj, uas txhais tau hais tias lub zog ntom ntom ntom ntawm lub pob zeb muaj lub plhaub zom zaws tsuas yog siv los ntawm lub hom phiaj cua kub, kev cuam tshuam ntawm lub hom phiaj uas muaj qhov zoo tshaj plaws ions yuav ua rau lub plav tsoo kom kub hnyiab thiab hlawv. Dhau li ntawd, nws kuj muaj qhov tsis zoo ntawm kev siv lub zog qaug zog thiab tsawg npaum li cov hlau ionization.

Nyob rau hauv xyoo tas los no, lub tshuab hluav taws xob tshuab hluav taws xob (HiPIMS) tau tsim nyob hauv tsev thiab txawv teb chaws, thiab qhov kev txwv no tau raug kev tsis zoo. Lub ncov lub zog ntawm high-power pulsed magnetron sputtering yog txog 100 lub sij hawm uas ntawm qhov txawv magnetron sputtering. Cov ionization tus nqi ntawm cov khoom siv nti yog tsis tshua muaj siab, thiab qhov teeb meem ionized no tsis muaj cov ntsiab lus loj. Yog li ntawd, cov yeeb yaj kiab zoo tau yooj yim los ntawm HiPIMS cov cuab yeej technology.

Txij thaum lub sijhawm ua lub plab ua haujlwm nyob rau ob peb puas microseconds, lub zog nruab nrab ntawm HiPIMS yog piv rau cov uas niaj hnub magnetron sputtering, yog li ntawd qhov yuav tsum tau ua rau cov cua txias hauv qhov chaw tsis muaj zog. Txawm hais tias lub hwj huam instantaneous ntawm high-power pulsed magnetron sputtering yog siab, nws nruab nrab zog yog tsis siab, yog li nws yuav dav siv.