Txoj Cai Ua Haujlwm ntawm ALD

ALD ua haujlwm los ntawm kev nthuav tawm cov substrate nto rau gaseous precursors uas hnov ​​​​mob rau saum npoo, uas ua rau muaj kev tso tawm ntawm ib txheej ntawm cov khoom. Cov txheej txheem yog tom qab ntawd rov ua dua nrog tus thib ob precursor uas reacts nrog thawj monolayer, ua rau lub deposition ntawm tus thib ob monolayer, thiab hais txog. Cov txheej txheem tuaj yeem rov ua dua ntau zaus raws li xav tau kom tau txais cov yeeb yaj kiab uas xav tau thiab muaj pes tsawg leeg.

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